新華社武漢11月10日電（記者譚元斌）經(jīng)過3年科技攻關(guān)，我國(guó)光學(xué)薄膜精密微復(fù)制技術(shù)取得重大突破，成功打破國(guó)外技術(shù)壟斷。這是記者10日從湖北省國(guó)防科工辦和湖北航天化學(xué)技術(shù)研究所獲得的消息。
　　據(jù)介紹，光學(xué)薄膜精密微復(fù)制技術(shù)是在光學(xué)薄膜基材表面精密涂布特定配方樹脂，然后在擁有特定設(shè)計(jì)納微尺度幾何結(jié)構(gòu)的雕刻輥上成型的技術(shù)。其廣泛應(yīng)用于液晶平板顯示器背光模組增亮膜和擴(kuò)散膜、道路交通標(biāo)識(shí)微棱鏡反光膜、液晶顯示器保護(hù)用防反射膜和防窺膜、裸眼3D顯示功能膜以及家電用仿金屬拉絲高光膜等。這些產(chǎn)品附加值高，市場(chǎng)需求大，關(guān)鍵技術(shù)一直掌握在國(guó)外公司手中。
2014至2016年，湖北航天化學(xué)技術(shù)研究所承擔(dān)湖北省重大科技專項(xiàng)“光學(xué)薄膜精密微復(fù)制工藝制備關(guān)鍵技術(shù)開發(fā)及應(yīng)用”，先后開展了結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、刻印樹脂配方研究和涂布工藝研究，近日已通過湖北省科技廳驗(yàn)收。
　　湖北航天化學(xué)技術(shù)研究所相關(guān)負(fù)責(zé)人說，他們?cè)O(shè)計(jì)出特殊表面涂層微結(jié)構(gòu)，開發(fā)出特殊刻印涂層樹脂配方，在光學(xué)薄膜刻印涂層背面采用防眩、防劃傷或防靜電處理，提高產(chǎn)品收益率20%以上，極大地提高了我國(guó)新材料產(chǎn)業(yè)鏈科技水平。
　　據(jù)介紹，目前，這項(xiàng)技術(shù)已在重要國(guó)防項(xiàng)目中得到應(yīng)用，申報(bào)發(fā)明10件。